欧亚乱色熟一区二区三四区,天堂に駆ける向天堂奔去歌词,欧美猛少妇色XXXXX猛交,成人午夜福利视频后入

詳細摘要： NIE-4000 離子束刻蝕系統，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統，通過加速的 Ar 離子進行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應離子束刻蝕...

詳細摘要： 英國Oxford 反應離子刻蝕機PlasmaPro 800 RIE，是結構緊湊、且使用方便的直開式系統，該系統為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RI...

詳細摘要： Sentech 集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統，SENTECH多腔系統包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用...

詳細摘要： 德國Sentech ALD實時監測儀，SENTECH ALD實時監測儀是一種新型的光學診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ALD循環。在不破壞真空的條件下分析薄膜特...

詳細摘要： Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000，提供的原子級清洗、拋光以及光學鍍膜技術。

詳細摘要： 牛津原子層刻蝕機PlasmaPro 100 ALE，它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發，通過打造質量滿足生產需求。

詳細摘要： PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統，平臺旨在提供深硅蝕刻（DSiE）領域的的靈活性以滿足微電子機械系統（MEMS）、 *封裝以及納米技...

詳細摘要： 牛津離子束刻蝕機Ionfab 300 IBE，離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模...

詳細摘要： PlasmaPro 80 PECVD牛津等離子沉積機，是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且...

詳細摘要： 牛津OpAL 開放式樣品載入ALD設備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ALD）系統，OpAL提供了專業的熱ALD設備，可以簡單明了的升級使用等離子體，使得在同...

詳細摘要： PlasmaPro 80 ICP 英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機，是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使...

詳細摘要： 牛津OXFORD System 100 等離子刻蝕與沉積設備，具有工藝靈活性，適用于化合物半導體，光電子學，光子學，微機電系統和微流體技術。

詳細摘要： PlasmaPro 80 RIE 牛津等離子體刻蝕機，是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且...

詳細摘要： Plasma Stripper (Asher) 等離子去膠機(灰化)，從蝕刻晶圓片上移除光刻膠。

詳細摘要： PlasmaPro 80 ICPCVD 英國Oxford 牛津等離子沉積機，是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于...

詳細摘要： RIE 等離子刻蝕機 SI 591，特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝，可以通過預真空室和電腦控制的等離子工藝系統實現。SI 591的特點是占地空間小，高度靈活...

詳細摘要： PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設計與直接負載相結合。

詳細摘要： SI 500D 代表了等離子體增強化學氣相沉積介電薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等離子體源，反應氣體分離氣體入口，動態控溫基片電極，全控...

詳細摘要： SI 500 PPD是一種*的等離子體增強化學氣相沉積介質薄膜的工具，硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面電容耦合等離子體源，真空加載鎖定，控溫基片電極，可選配低...

詳細摘要： SENTECH SI 500 電感耦合等離子體ICP干法刻蝕系統，感應耦合等離子刻蝕機臺，低損傷納米結構刻蝕，高速率刻蝕，內置ICP等離子源，動態溫控。